ระบบเตาให้ความร้อนด้วยหลอดอินฟราเรดแบบตั้งโต๊ะ (MILA-5000 Series)
ระบบเตาให้ความร้อนด้วยหลอดอินฟราเรดแบบตั้งโต๊ะ (MILA-5000 Series)
MILA-5000 series
MILA-5000 Series คือระบบให้ความร้อนด้วยหลอดอินฟราเรดขนาดกะทัดรัดที่รวมเอาคุณสมบัติเด่นของ "Infrared Gold Image Furnace" ไว้ด้วยกัน สามารถทำความร้อนและเย็นได้อย่างรวดเร็ว (Rapid Heating/Cooling) และเป็นการให้ความร้อนที่สะอาด (Clean Heating) ตัวเครื่องออกแบบมาให้มีขนาดเล็กและราคาย่อมเยา โดยรวมตัวควบคุมอุณหภูมิและห้องบรรยากาศ (Chamber) ไว้ในชุดเดียวกัน สามารถเลือกบรรยากาศในการให้ความร้อนได้อย่างอิสระ ควบคุมการทำงานและจัดการข้อมูลผ่านคอมพิวเตอร์ได้อย่างสะดวกผ่านการเชื่อมต่อ USB
การใช้งาน (Applications)
การอบผนึกผลึกฟิล์มบางเฟอร์โรอิเล็กทริก (Ferroelectric thin film crystal annealing)
การอบเพื่อการแพร่ซึมหลังการฝังไอออน (Diffusion annealing after ion implantation) และการอบเพื่อสร้างชั้นออกไซด์
การซินเตอริ่ง (Sintering) และอัลลอยอิง (Alloying) สำหรับเวเฟอร์ Si และสารประกอบ
การอบแผ่นกระจกให้ความร้อนสม่ำเสมอ (Glass substrate soaking/annealing)
การทดสอบวัฏจักรความร้อน (Thermal cycle), การเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิเฉียบพลัน (Thermal shock), และความล้าจากความร้อน (Thermal fatigue)
เตาเผาสำหรับการทดสอบการคายก๊าซด้วยความร้อน (TDS: Thermal Desorption Spectroscopy)
การทดสอบประสิทธิภาพของตัวเร่งปฏิกิริยา (Catalyst effect testing)
คุณสมบัติ
คุณสมบัติ
เลือกบรรยากาศได้อิสระ: รองรับทั้งสุญญากาศ, ในก๊าซ, การไหลของก๊าซ (Gas flow), และในอากาศปกติ
การควบคุมอุณหภูมิที่แม่นยำ: ควบคุมอุณหภูมิได้อย่างละเอียดตามแบบฉบับของ CHINO
ดีไซน์กะทัดรัด: เป็นแบบตั้งโต๊ะ (Desktop type) ประหยัดพื้นที่
ควบคุมผ่าน PC ได้ง่าย: สามารถตั้งค่าโปรแกรมอุณหภูมิและอินพุตสัญญาณภายนอกได้ง่ายๆ จากคอมพิวเตอร์ของคุณ
แสดงผลข้อมูล Real-time: สามารถแสดงกราฟและข้อมูลอุณหภูมิระหว่างการให้ความร้อนบนหน้าจอคอมพิวเตอร์ได้ทันที
ข้อมูลเฉพาะ
ข้อมูลเฉพาะ
รุ่น: MILA-5000-P-F (รุ่นอุณหภูมิสม่ำเสมอ / Uniform Temp Type)
ช่วงอุณหภูมิ: อุณหภูมิห้อง (RT) ～ 800°C
ขนาดชิ้นงาน: สี่เหลี่ยม 20 มม. × หนา 2 มม.
บรรยากาศการให้ความร้อน: ในอากาศ (Air), สุญญากาศต่ำ (Low Vacuum), ก๊าซเฉื่อย (Inert Gas)
ความดันในกระบวนการ: 10Pa ～ ความดันบรรยากาศ (เมื่อใช้ RP*1, ที่อุณหภูมิห้องไม่มีโหลด)
รุ่น: MILA-5000-P-N (รุ่นอุณหภูมิสูง / High Temp Type)
ช่วงอุณหภูมิ: อุณหภูมิห้อง (RT) ～ 1200°C
ขนาดชิ้นงาน: สี่เหลี่ยม 20 มม. × หนา 2 มม.
บรรยากาศการให้ความร้อน: ในอากาศ (Air), สุญญากาศต่ำ (Low Vacuum), ก๊าซเฉื่อย (Inert Gas)
ความดันในกระบวนการ: 10Pa ～ ความดันบรรยากาศ (เมื่อใช้ RP*1, ที่อุณหภูมิห้องไม่มีโหลด)
รุ่น: MILA-5000UHV (รุ่นอุณหภูมิสูง・สุญญากาศสูง / High Temp & High Vacuum Type)
ช่วงอุณหภูมิ: อุณหภูมิห้อง (RT) ～ 1000°C
ขนาดชิ้นงาน: สี่เหลี่ยม 20 มม. × หนา 2 มม.
บรรยากาศการให้ความร้อน: ในอากาศ (Air), สุญญากาศสูง (High Vacuum), ก๊าซเฉื่อย (Inert Gas)
ความดันในกระบวนการ: $10{-4}$Pa ～ ความดันบรรยากาศ (เมื่อใช้ TMP*1, ที่อุณหภูมิห้องไม่มีโหลด)
*1: ปั๊มสุญญากาศ (Vacuum pump) เป็นอุปกรณ์เสริม (Option) *2: อุณหภูมิในการทำความร้อนจะขึ้นอยู่กับการสะท้อน/ดูดซับรังสีอินฟราเรด ค่าความจุความร้อน และวัสดุของชิ้นงาน
ดาวน์โหลด
ดาวน์โหลด
